銀川雙堿法（fǎ）脫硫塔-雙堿法脫硫塔工作（zuò）原理

雙堿（jiǎn）法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉再生脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之間進行，避免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液（yè）氣比小、吸收（shōu）劑利用率高、投資費用省、運行（háng）成本低，適用（yòng）於鍋爐（lú）煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資（zī）源豐富，投資成本低（dī）；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水（shuǐ）溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷（shuā）及堵塞（sāi），便於（yú）設備運行和維護。

2、鈉基吸收（shōu）液對（duì）SO2反應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫（tuō）硫劑可被循環使用，它的再生及脫硫沉澱均發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運行成（chéng）本。

4、以空塔噴淋為（wéi）脫硫塔結構（gòu），運行可靠性高，事故發生率（lǜ）小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙堿法脫硫係統采（cǎi）用鈉基（jī）脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪拌（bàn）均勻後做成溶液打入脫硫塔，該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除（chú）煙氣中（zhōng）的SO2。脫（tuō）硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可（kě）再次循環使用。

2、工藝原理

含（hán）硫煙氣經除塵（chén）後，由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔（tǎ）內設置霧化係統，在該區段空間充滿著（zhe）由霧（wù）化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣（qì）中SO2與吸收堿液再次反應，脫（tuō）除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫硫（liú）塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統，適當補充一定量的堿液後，經（jīng）循環泵再次送入噴霧（wù）和配液係統（tǒng）中被再次利用，脫（tuō）硫（liú）劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設（shè）計的特殊性，經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分離出來，達到同時除塵除霧（wù）的效（xiào）果，潔淨煙氣終達標排（pái）放。

三、工藝優（yōu）勢

1、煙氣係統

煙氣（qì）經煙道引風機直接進入脫硫塔，脫硫塔（tǎ）以空塔（tǎ）噴（pēn）淋結構，設計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中（zhōng）除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫（liú）泵（bèng）出現故障時，脫硫暫停反應，煙氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔向（xiàng）上（shàng）升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔（tǎ）采用噴嘴式空塔噴淋（lín），將溶劑霧化無數液滴，讓氣（qì）液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積（jī）越（yuè）大，兩相傳質熱反應，效率越高。

脫硫塔（tǎ）內堿液霧化吸收SO2及粉塵，生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液（yè）排（pái）出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經（jīng）循環脫硫泵打入脫硫循（xún）環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧（wù）器折流板碰衝作用（yòng），煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固（gù）體顆粒被除霧（wù）器捕獲分離（lí）。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥（ní）漿泵從沉（chén）澱池排出（chū）處理好，經自然（rán）蒸發（fā）晾幹。由於石（shí）膏漿中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以一（yī）般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚器（qì）增濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的解決（jué）

雙堿法（fǎ）是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼（jì）續使用（yòng）。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿（jiāng）液中，經固液分離，分離的固體殘渣進行回收堆放再做他（tā）用。溶液流回再生池繼續使用，因此不會產生二次汙染（rǎn）。

5、吸收SO2效率及主要影響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫（tuō）硫效率高，同（tóng）時PH值高，結垢幾率小，避免吸（xī）收劑表麵純化。

溫度：溫度（dù）低有利（lì）於氣液傳質，溶解SO2，但溫度低影響反應速度，所以脫硫劑的溫（wēn）度不是一個獨立的不變因素，取（qǔ）決於進氣的煙氣溫度。

石灰粒度及純度：要（yào）求石灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液漿濃度：控（kòng）製在10~15%。