宜昌雙堿法脫硫塔-雙堿法（fǎ）脫硫塔工作原理

雙堿法脫硫工藝（yì）是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫（liú），然後再用石灰粉再生（shēng）脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之間進行，避免（miǎn）了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢（fèi）氣等的脫硫（liú）。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資源豐（fēng）富，投資成本低（dī）；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝（chōng）刷及堵塞，便於設備（bèi）運行和（hé）維護（hù）。

2、鈉（nà）基吸收液對SO2反應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫（liú）劑可被循環使用，它的再生及脫硫沉澱均發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空塔噴淋為脫（tuō）硫塔結構，運行可靠性高，事故發（fā）生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙堿法（fǎ）脫硫係（xì）統采用（yòng）鈉基脫硫劑進行脫硫，將（jiāng）NaOH（燒堿、火堿（jiǎn））和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔（tǎ），該堿性（xìng）溶液（yè）霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產（chǎn）物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成（chéng）NaOH，可再次循環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置（zhì）霧化係統，在該（gāi）區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次（cì）反應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體（tǐ）落入脫硫塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統，適當補充一定量的堿液後，經循環（huán）泵再次送入噴霧和配液係統中被再（zài）次利用，脫硫劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係（xì）統。由於設計的特殊性，經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分離出來，達（dá）到同時除塵除霧的效果，潔（jié）淨煙氣終（zhōng）達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔，脫硫塔以空塔噴淋結構，設計空速小（xiǎo）（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至塔頂進入煙囪排入（rù）大氣（qì）。當脫硫泵出現故障時，脫硫暫停反應，煙氣可通過煙（yān）囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸（xī）收係統

煙氣進（jìn）入脫硫（liú）塔（tǎ）向（xiàng）上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌（dí），脫硫塔采用噴嘴式（shì）空塔噴淋，將溶劑霧化無數液滴，讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液（yè）相接觸麵積越大，兩相（xiàng）傳質熱（rè）反應，效率越高。

脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵（chén），生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和（hé）Na2SO3。脫硫液（yè）排出塔外進入再生池（chí）與（yǔ）Ca(OH) 2反應，再（zài）生（shēng）出鈉離子並（bìng）補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵（bèng）打入脫硫循環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石（shí）膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還（hái）有部分被氧化的Na2SO4及（jí）粉塵。由潛水（shuǐ）泥（ní）漿泵從沉澱池排出處理（lǐ）好，經自然蒸發晾幹（gàn）。由於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的（de）質量，所以一般以（yǐ）拋（pāo）棄法為高。排出沉澱（diàn）池漿液可經水力旋流器，稠厚器增濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二（èr）次汙染的解決

雙堿法是以鈉（nà）堿吸收（shōu）SO2,其產（chǎn）物可再生出鈉堿繼續使（shǐ）用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏（gāo）漿液中，經固液分（fèn）離，分離的固體殘渣進行回（huí）收堆放再做他用。溶液流回再（zài）生池繼（jì）續使用，因（yīn）此不會產生二次（cì）汙（wū）染。

5、吸收SO2效率及主要影響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率小，避免（miǎn）吸收劑表麵純化。

溫（wēn）度：溫度低有利（lì）於氣（qì）液傳質，溶解SO2，但溫度低影響反應速度，所以脫硫劑（jì）的溫度不是一個獨立的不變因素，取決於（yú）進氣的（de）煙氣溫度。

石灰粒度及純度：要求石灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液（yè）漿濃度：控製在10~15%。