四川雙堿法脫硫塔-雙堿法脫硫塔工（gōng）作原理

雙堿法脫硫（liú）工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉再生脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之間進行，避免了係統（tǒng）結垢問題，而（ér）且脫（tuō）硫速（sù）率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本（běn）低，適用於鍋爐煙氣（qì）、焦爐氣（qì）、鍋爐生產廢氣等的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫（tuō）硫，材料普通，資源豐富，投資成本低（dī）；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程（chéng）中緩解水泵、管（guǎn）道、設備腐蝕、衝刷及堵塞，便於設備運行和維護（hù）。

2、鈉基吸收液對SO2反應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它的再生（shēng）及脫硫沉澱均發生於塔（tǎ）體，避免塔內堵塞（sāi）和磨損，降低了運行成本。

4、以空（kōng）塔噴（pēn）淋為脫硫塔結構，運行可靠性高，事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工（gōng）藝介紹

雙堿法脫硫係統采用鈉基（jī）脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰（huī）、消石（shí）灰）攪拌均勻後做成溶（róng）液打入脫硫塔，該堿（jiǎn）性溶液霧化後與含硫煙氣（qì）充分反應，從而脫（tuō）除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用。

2、工藝原理

含硫（liú）煙氣經除塵後，由引風（fēng）機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在（zài）噴淋塔（tǎ）內設置霧化係（xì）統，在該區段空間充滿著由霧（wù）化（huà）器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣中（zhōng）SO2與吸收堿液再次反（fǎn）應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫硫塔底部，定時（shí）定期排入（rù）脫硫塔後設置的（de）收集（jí）係（xì）統，適當補充一定量的堿液後（hòu），經循環泵再次送入噴霧和配液（yè）係統中被再次利用，脫硫劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設（shè）計的特殊性，經脫硫後的煙氣通過（guò）塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分離出來，達到同時除塵（chén）除霧的效果，潔淨煙氣終（zhōng）達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統（tǒng）

煙（yān）氣經煙道引風機直接（jiē）進入脫硫塔，脫（tuō）硫塔以空塔噴淋結構，設（shè）計空速（sù）小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫（liú）集（jí）中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣（qì）。當脫硫泵（bèng）出現故障時，脫硫暫停反應，煙（yān）氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔向上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔采（cǎi）用噴嘴式空塔噴（pēn）淋，將溶劑（jì）霧化無數液滴（dī），讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效率越高。

脫（tuō）硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵（chén），生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應（yīng），再生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除（chú）霧（wù）器捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石（shí）膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的（de）Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好，經（jīng）自然蒸發晾幹。由（yóu）於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚（hòu）器增（zēng）濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的解決

雙堿法是以（yǐ）鈉堿（jiǎn）吸收SO2,其產物可再生出鈉堿（jiǎn）繼續使用。有少量的Na2SO4不（bú）能夠再生被帶入石膏漿液中，經固液分離，分離的固（gù）體殘渣（zhā）進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用，因此不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及（jí）主要影響因素

PH值：PH值高（gāo），SO2吸（xī）收速率大，脫硫效率（lǜ）高，同時PH值高，結垢幾率（lǜ）小（xiǎo），避免吸收劑表（biǎo）麵純化。

溫度：溫度低有利於氣液傳（chuán）質，溶解SO2，但溫度（dù）低影（yǐng）響反（fǎn）應速度，所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素，取決於進（jìn）氣的煙氣溫度。

石灰粒度及純度：要求石灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液漿濃度：控製在（zài）10~15%。