發布時間(jiān):2023-07-17 11:30:37 人氣:117563
雙堿法(fǎ)脫硫工藝是先(xiān)用鈉(nà)堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉(fěn)再生脫硫液,由於整(zhěng)個反應過程是液氣相之間進行,避免了係(xì)統結垢問題,而(ér)且脫(tuō)硫速率高、液氣比小、吸收劑(jì)利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋(guō)爐煙氣、焦爐(lú)氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投(tóu)資成本低;脫(tuō)硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解(jiě)水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備(bèi)運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較小(xiǎo)的液(yè)氣比,達到較高的脫硫效率,一(yī)般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均發生於(yú)塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低(dī)了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫(liú)塔結構,運行可靠性高,事故發生率小(xiǎo),塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工(gōng)藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫(liú),將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣(qì)充(chōng)分反應,從(cóng)而脫除煙(yān)氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環(huán)使(shǐ)用。
2、工藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正(zhèng)壓吹(chuī)入噴淋脫(tuō)硫塔內。在噴淋塔內設置(zhì)霧化係統,在該區(qū)段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收(shōu)堿液再次反應,脫(tuō)除90%以(yǐ)上的二氧(yǎng)化硫。
脫(tuō)硫後的液體落(luò)入(rù)脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後設置的收(shōu)集係統,適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次送入噴霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處(chù)於(yú)循環狀(zhuàng)態。
經多次循環後的脫硫漿液排(pái)入後處理係統。由於設計的(de)特(tè)殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來(lái),達到同時除塵除(chú)霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直(zhí)接進入脫硫(liú)塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力(lì)降小(≤600Pa)。脫硫集中除(chú)塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進(jìn)入煙囪排入大氣。當脫(tuō)硫泵出現故障時,脫硫暫停反應,煙(yān)氣可通過煙囪排入(rù)大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入脫(tuō)硫塔向上升起,與向下噴(pēn)淋的(de)脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分(fèn)接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積(jī)越大(dà),兩相(xiàng)傳質熱反應,效率越高(gāo)。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入(rù)再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離(lí)子並補入(rù)Na2SO3(或NaOH),經(jīng)循環脫硫泵打入脫硫循(xún)環吸(xī)收SO2。
脫硫塔頂(dǐng)部裝有除霧器,經(jīng)除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫(liú)產物處理
脫硫產物是石膏漿,具體(tǐ)為CaSO3、CaSO4還有(yǒu)部分被氧化的(de)Na2SO4及粉塵。由潛水(shuǐ)泥漿泵從沉澱池排(pái)出處理好(hǎo),經自然蒸發(fā)晾(liàng)幹。由於石膏漿中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以(yǐ)拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃(nóng)提固(gù)後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的(de)解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物(wù)可再生出(chū)鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被(bèi)帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用(yòng),因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主(zhǔ)要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾率小,避免吸收(shōu)劑表麵純(chún)化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解(jiě)SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石(shí)灰粒度及純度:要求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內(nèi)。
液漿濃度(dù):控製在10~15%。