發布時間(jiān):2023-07-17 11:30:37 人氣:117626
雙堿法脫(tuō)硫(liú)工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再(zài)用石灰粉再生脫硫液(yè),由於整個反應過程是液氣相之間進(jìn)行,避(bì)免了係(xì)統結(jié)垢問題,而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙(yān)氣、焦爐氣(qì)、鍋爐生產廢氣等的脫(tuō)硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主(zhǔ)要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中(zhōng)緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於(yú)設備運行(háng)和維護。
2、鈉基吸收液對(duì)SO2反應速度(dù)快,故有較小的液氣比,達到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使(shǐ)用,它的再生及脫硫沉澱(diàn)均(jun1)發(fā)生於(yú)塔體,避免(miǎn)塔內堵塞和磨損,降低了運(yùn)行成(chéng)本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介(jiè)紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後(hòu)做成溶液打入(rù)脫(tuō)硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工(gōng)藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機(jī)正壓(yā)吹入(rù)噴淋脫硫塔內。在(zài)噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫(tuō)硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排(pái)入脫硫塔後設置的(de)收集係(xì)統,適當補充一定量的堿液後,經(jīng)循(xún)環泵再次送入噴霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循環(huán)狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入(rù)後處理(lǐ)係統。由於設計的特(tè)殊性,經脫硫後的煙氣通過(guò)塔頂(dǐng)除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來,達到同時(shí)除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係(xì)統
煙氣經(jīng)煙道引風(fēng)機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構(gòu),設計空速小(xiǎo)(4.0m/s),塔壓力降小(xiǎo)(≤600Pa)。脫硫集(jí)中除(chú)塵、脫硫、排(pái)煙氣(qì)於(yú)一體,煙氣升(shēng)至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫(tuō)硫泵(bèng)出現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙(yān)氣進入脫硫塔向上升(shēng)起,與向下噴淋的(de)脫硫塔以逆流(liú)式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接(jiē)觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質(zhì)熱反應,效率越高。
脫硫塔內堿液(yè)霧化吸(xī)收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反(fǎn)應,再(zài)生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除霧器,經(jīng)除霧器折流板碰衝(chōng)作(zuò)用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕(bǔ)獲分離。
3、脫硫產物處理
脫硫產物(wù)是石膏漿,具體(tǐ)為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好,經自然(rán)蒸發晾幹(gàn)。由於石膏漿中含有固體雜(zá)質,影響石膏(gāo)的質量,所以(yǐ)一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃(nóng)提固後(hòu),再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物(wù)可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離(lí)的固體殘渣(zhā)進行回收堆放再做他用。溶液(yè)流回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙(wū)染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾率小,避(bì)免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於(yú)氣液傳質,溶解SO2,但溫度低影響反(fǎn)應速度,所以脫(tuō)硫劑的溫度不(bú)是一個(gè)獨立的(de)不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石(shí)灰純(chún)度≥95%,粒(lì)度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。