發布時(shí)間:2023-07-17 11:30:37 人氣(qì):117642
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於整個反應過程是液氣相之間進行,避免(miǎn)了係統結垢問題,而(ér)且脫(tuō)硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙(yān)氣、焦爐氣、鍋爐(lú)生產廢(fèi)氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料(liào)普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解水泵、管(guǎn)道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備(bèi)運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較小(xiǎo)的液(yè)氣比,達到較高(gāo)的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均發生(shēng)於塔體(tǐ),避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以(yǐ)空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性(xìng)高,事故發生率小(xiǎo),塔阻(zǔ)力低,△P≤600Pa。
二(èr)、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係(xì)統采用鈉基(jī)脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰(huī)、消石灰)攪拌均勻後做成溶液(yè)打入脫硫(liú)塔,該堿性溶液(yè)霧化後與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產(chǎn)物經脫硫劑再生池被(bèi)Ca(OH)2還原(yuán)成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原理
含硫煙氣(qì)經除塵後,由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔(tǎ)內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿(mǎn)著由霧化器噴出(chū)的粒徑為100~300μm的(de)霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液(yè)再次反應,脫除90%以上的二氧化硫(liú)。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統,適當補(bǔ)充(chōng)一定量的堿(jiǎn)液後,經(jīng)循環泵再次送入噴霧和配液係統(tǒng)中(zhōng)被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循(xún)環(huán)後的脫硫漿液排入後處理(lǐ)係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時,將煙(yān)氣中的液滴分離出來,達到同時除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空(kōng)塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙(yān)氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出(chū)現故(gù)障時(shí),脫硫(liú)暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣(qì)。
2、脫硫塔SO2吸(xī)收係(xì)統
煙氣進入脫硫塔向(xiàng)上升起,與向下(xià)噴淋的脫(tuō)硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式(shì)空塔(tǎ)噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應(yīng),效(xiào)率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸(xī)收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再(zài)生池與Ca(OH) 2反應,再(zài)生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔(tǎ)頂部裝有除霧器,經(jīng)除霧器折流(liú)板碰衝作用,煙氣攜帶的煙(yān)塵和其他水滴、固體顆粒被(bèi)除霧器(qì)捕獲分離。
3、脫硫產物處理
脫(tuō)硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從(cóng)沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏(gāo)漿中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄(qì)法為高。排出沉澱(diàn)池漿液可經水力旋流器,稠厚器(qì)增濃提(tí)固後(hòu),再排至渣場處理。
4、關於二次(cì)汙染的解決
雙堿(jiǎn)法(fǎ)是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續(xù)使用。有少量的Na2SO4不(bú)能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液(yè)分(fèn)離,分離(lí)的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用,因此不會產生二次(cì)汙染。
5、吸收SO2效率及(jí)主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢(gòu)幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度低(dī)影響反應速度,所以脫硫(liú)劑的溫度(dù)不是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫(wēn)度。
石灰粒度及純度(dù):要求石灰純度(dù)≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製(zhì)在10~15%。